Terminologie comună de vid11- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

Terminologie comună de vid11

1. Unghiul de acoperire ： Unghiul dintre direcția particulelor incidente pe substrat și normalul suprafeței placate.
2. Vrăpirea Sputtering ： În vid, ioni de gaz inert bombardează atomi (molecule) sau clustere de pe suprafața țintă.
3. Spălarea fasciculului de tip ： Ținta este pulverizată de un fascicul ionic obținut dintr -o sursă de ioni speciali.
4. Curățarea descărcărilor de descărcare ： Pe baza principiului descărcării de strălucire, suprafața substratului și a filmului este curățată prin bombardarea descărcării de gaz. Furnizori de mașini de acoperire decorativă din China
5.PVD Depunerea de vapori fizici ： În vid, materialul de acoperire este vaporizat prin metode fizice, cum ar fi evaporarea sau sputtering -ul și depus pe substrat.
6.CVD Depunerea vaporilor chimici: o metodă de depunere a materialelor de film noi pe substraturi prin reacții chimice de vapori ale gazelor de reacție cu un anumit raport chimic în condiții specifice de activare (de obicei la o anumită temperatură ridicată) .

Distribuie: