Care este diferența dintre acoperirea evaporativă și acoperirea sputtering？

Filmul de evaporare în vid este de a încălzi materialul pentru a fi evaporat la o anumită temperatură prin încălzire de rezistență sau fascicul de electroni și bombardament laser într-un mediu cu un grad de vid de nu mai puțin de 10-2PA, astfel încât energia de vibrație termică a moleculelor sau atomilor din material depășește suprafața. Prin urmare, un număr mare de molecule sau atomi sunt evaporate sau sublimate și depuse direct pe substrat pentru a forma o peliculă subțire. Acoperirea cu sputtering cu ioni este de a utiliza mișcarea ridicată a ionilor pozitivi generați de descărcarea de gaze sub acțiunea unui câmp electric pentru a bombarda ținta ca catod, astfel încât atomii sau moleculele din ținta de evadare și depozit pe suprafața piesei de lucru pentru a fi placate, formând filmul necesar.

Metoda utilizată frecvent pentru acoperirea cu evaporare în vid este metoda de încălzire a rezistenței, care are avantajele structurii simple a sursei de încălzire, a costurilor reduse și a funcționării convenabile. Încălzirea fasciculului de electroni și încălzirea cu laser pot depăși deficiențele de încălzire a rezistenței. În încălzirea fasciculului de electroni, un fascicul de electroni focalizat este utilizat pentru a încălzi direct materialul bombardat, iar energia cinetică a fasciculului de electroni devine energie termică pentru a evapora materialul. Încălzirea cu laser folosește un laser cu putere mare ca sursă de încălzire, dar datorită costului ridicat al laserelor cu putere mare, acesta poate fi utilizat doar în câteva laboratoare de cercetare.

Tehnologia de sputtering diferă de tehnologia de evaporare a vidului. „Sputtering” se referă la fenomenul în care particulele energetice bombardează suprafața unui corp (țintă), determinând ejectarea atomilor sau moleculelor solide de la suprafață. Dintre particulele ejectate sunt în stare atomică, adesea numite atomi sputtered. Particulele de sputtering utilizate pentru bombardarea țintei pot fi electroni, ioni sau particule neutre, deoarece ionii sunt ușor accelerați sub un câmp electric pentru a obține energia cinetică necesară, astfel încât ionii sunt folosiți în mare parte ca particule de bombardare. Procesul de sputtering se bazează pe descărcarea de strălucire, adică ionii de sputtering provin din descărcarea de gaz. Diferite tehnici de sputtering folosesc diferite metode de descărcare de strălucire. Sputtering-ul cu două poli DC folosește descărcarea de strălucire DC; Sputtering-ul cu trei poli se folosește de descărcare de strălucire susținută de catod fierbinte; RF Sputtering folosește descărcarea de strălucire a frecvenței radio; Sputtering -ul cu magnetron folosește descărcarea de strălucire sub controlul câmpului magnetic inelar. descărcare ușoară.

În comparație cu acoperirea cu evaporare în vid, acoperirea cu sputtering are multe avantaje. De exemplu, orice substanță poate fi pulverizată, în special elemente și compuși cu punct de topire ridicat și presiune scăzută de vapori; o bună aderență între filmul sputter și substrat; densitate ridicată a filmului; grosime de film controlabilă și repetabilitate bună. Dezavantajul este că echipamentul este mai complicat și necesită dispozitive de înaltă tensiune. În plus, combinația de metodă de evaporare și metoda de sputtering se numește placare cu ioni. Avantajul acestei metode este că filmul obținut are o aderență puternică între substrat și substrat și are o rată de depunere ridicată și o densitate ridicată a filmului.

Fondată în 2007 ca nume anterior Huahong vid Technology, este profesionist China China Magnetron Sputtering Machines Furnizori şi Mașini de sputtering cu magnetron continuu furnizori , inclusiv, dar fără a se limita la sisteme de sputtering, unități de acoperire optică, metalizatoare de lot, sisteme de depunere de vapori fizici (PVD), echipamente de depunere a acoperirii cu vid rezistent la uzură, straturi de substrat de sticlă, palete de substrat PC, mașini de rulare pentru substraturi flexibile de acoperire. Mașinile sunt utilizate pentru o gamă largă de aplicații descrise mai jos (dar fără a se limita la) automobile, decorative, acoperiri dure, acoperiri de tăiere a sculelor și metalelor și aplicații de acoperire cu filme subțiri pentru industriale și laboratoare, inclusiv universități. Compania de tehnologie de vid de vid Ltd este angajată pentru a extinde limitele de piață, oferind prețuri de înaltă calitate, de înaltă performanță și în valoare de mare măsură de sputtering de magnetron. Compania noastră se concentrează foarte mult pe serviciile post-vânzare pe piețele interne și internaționale, oferind planuri precise de procesare a părților și soluții profesionale pentru a satisface nevoile clienților.